「设备用途」
采用物理冶金提纯法,主要用于冶金级工业硅粉的提纯,用以制备太阳能级多晶硅原材料。
「技术指标」
产品型号
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VITD-2
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主真空室
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立式圆筒型真空室,尺寸φ1500×2400mm,双层水冷。
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真空系统配置
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扩散泵,罗茨泵,机械泵,高真空气动挡板阀。
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极限真空度
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6.6×10-3Pa(冷态),漏率:≤1×10-8Pa.L/s;压升率:≤6.7×10-1Pa./m。
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感应熔炼系统
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最高加热温度
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≤1600℃。
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水冷坩埚尺寸
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内径500mm高度600mm。
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坩埚容量
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200kg。
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坩埚运动行程
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600mm;具有归零位功能;设有位置检测采用数显光栅尺,分辨率1微米。
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坩埚运动速度
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5-50mm/h,快速升降速度:5mm/s。
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在线加料系统
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可在线添 加辅助元素。
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测温系统
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设有两组测温K偶。
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感应熔炼电源
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400KW。
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