电子束蒸发镀膜系统-主要产品-沈阳好智多新材料制备技术有限公司

电子束蒸发镀膜系统

公司电话 024-88096571

设备用途：

本设备用于制备各类高熔点金属膜、介质膜、化合物膜、导电薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构对薄膜材料的科研及小批量制备。用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。

主要技术指标
真空指标	极限真空度：≤5x10-5Pa (经烘烤除气后)；系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，45分钟可达到6x10-4 Pa；
真空室	真空室为U型箱体活开门结构，尺寸为500mm×500mm×600mm，四壁水道冷却，壁挂防污板，选用优质不锈钢材料制造。
样品尺寸	基片尺寸：可放置Φ4英寸基片，1片；基片加热最高温度600℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制，基片可连续回转，转速3~30转/分。
电子枪（1~2套）	270°E型电子枪及高压电源，电子枪功率0~6kW或8kW可调，水冷式坩埚，四穴坩埚，每个容量为11ml。
膜厚仪	石英晶体震荡膜厚仪。
真空获得及测量	分子泵+机械泵，数显复合真空计（皮拉尼规+电离规）
气路	200SCCM质量流量控制器、充气阀RF16、进气截止阀、混气室、管路、接头等；共1路；充气阀D6，管路、接头等；共1路（解除真空充氮气）