设备用途:
用于在叶片、钻头等工件上镀制超硬膜而特殊设计的一种专用设备,其特点是薄膜附着力强、耐磨摩擦系数小,在科研与工业生产上应用广泛。
主要技术指标
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真空指标
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极限真空度:≤5x10-4Pa (经烘烤除气后);
系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;
系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到3x10-3 Pa;
停泵关机12小时后真空度:≤20Pa;
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真空室
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真空室为立式圆筒型真空室 或U型真空室前开门,壁挂防污板,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行特殊工艺抛光处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封。
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样品
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转盘上可放置400个直径为15mm的工件或定制;加热最高温度 600°C±1°C;脉冲偏压1000v;公自转;
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真空获得及测量
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分子泵+机械泵,数显复合真空计(皮拉尼规+电离规)
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气路
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两路进气,气体流量控制器。
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多弧源
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Φ100mm,4-8支
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控制系统
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手动或自动
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工作压力控制系统
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手动或自动
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水冷机组
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可选
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磁过滤多弧源
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可选
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