CVD 化学气相沉积系统-主要产品-沈阳好智多新材料制备技术有限公司

CVD 化学气相沉积系统

公司电话 024-88096571

设备用途 ：

该设备适合制备金刚石薄膜，具有技术成本低，工艺参数可控性好，设备简单易操作等特点

主要技术指标
真空指标	极限真空度：≤8x10-5Pa (经烘烤除气后)；系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.6x10-4 Pa；停泵关机12小时后真空度：≤10Pa；
真空室	真空室为圆筒形真空室，电动上提升，壁挂防污板，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封。
热丝系统	特殊设计加热，最高温度 2300°C , 通过红外测温仪进行测温
样品	可放置最大Φ100mm基片。可液氮冷却
真空获得及测量	分子泵+机械泵+罗茨泵，数显复合真空计（皮拉尼规+电离规）
气路	配备半导体标准气路柜，顶部接有排风。整套气路全部安装在一个密闭的配气柜中。气体的输送、分配采用工控机+PLC可编程控制，实行封闭式全自动进气。配备有毒气体检测与报警系统。配套气路使用的气路管道、VCR接头、每路气体配有单向阀、配有气动截止阀、质量流量控制器等全部使用进口件。对于腐蚀性及危险气体，使用高质量、全不锈钢质量流量计
控制系统	手动或自动
工作压力控制系统	手动或自动
水冷机组	可选
尾气处理装置	可选
红外测温仪	可选