设备用途:
主要技术指标 |
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真空指标 |
生长室: 极限真空度:优于6. 6X10-5Pa; 抽速: 40分钟可达到5 X 10-4Pa, 检漏漏率:优于10- 7Pa. 1 / s; 进样室: 极限真空度:优于 6. 6 X 10-4Pa; 抽速: 40分钟可达到5 X 10-3 Pa, 检漏漏率:优于10-7 Pa. 1 / s; |
生长室 |
真空室尺寸约为Φ500mm X H625mm, 上法兰为封头结构,前面设有矩形活开门真空室设计采用高真空设计,四壁水道冷却,壁挂防污板,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面处理采用喷玻璃丸+化学电解抛光钝化处理新工艺; |
进样室 |
带九层样品库; 样品尺寸最大 150 X 150mm ;样品台装置可手动上下升降,手动转动,并有每90度角度位置定位装置,满足样品更换掩膜板及样品交接传递需要 |
蒸发源 |
无机蒸发源 : W/T a/ Mo舟蒸发; E型电子枪: 功率0- 8KW, 四穴玵涡, 每个容量约为 20 ml; 单穴尺寸:Φ42mm X Φ35 mm X 25mm (圆台型) 低温有机蒸发源:温度范围: 50—600°C。三氧化二铝坩埚 ,标准容量10cc ; 高温有机蒸发源: 常用温度1200°C, PBN玵祸, 标准容量1- 10cc ; |
样品传递装置 |
手动或电动控制传递杆 |
真空获得及测量 |
分子泵+机械泵或冷泵+干式真空泵;数显复合真空计(皮拉尼规+电离规) |
样品台 |
基片尺寸: 可放置最大150 X 150mm; ( 可选单样品加热,温度范围0- 300°C ) 基片掩膜库装置 1套:上面4层为掩膜库,每层可装1种 掩膜板 |
蒸发电源 |
3KW,带有微调功能±0.1A |
控制系统 |
自动 |
手套箱 |
密闭循环手套箱内的隋性气体经循环风机和净化器密闭循环,不断地除水除氧;自动控制再生:除水除氧材料可以再生,再生过程由程序控制;自动清洗:手套箱内的气氛置换通过自动控制的清洗阀门完成;箱体压力控制:手套箱内压力通过PLC自 动控制,工作压力+/- 10 mbar 内可以自由设定,超出+/ - 12mbar 系统自动保护;真空泵自动控制:真空泵要求在系统需要时自动开启; 功能:气体密闭,除水、除氧; 容器材料: 304不锈钢; 净化材料:铜触媒: 5kg, 分子筛: 5kg; 净化能力:除氧: 60L, 除水: 2Kg; 水氧指标 : 小千1pp m; |
水冷机组 |
可选 |
石英晶振膜厚仪 |
多探头可选 |